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EOS P系统烧结过程中无需支撑结构。 |
模块化的系统构成,激光烧结系统可根据客户预算及生产环境进行配置。 |
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铺粉装置升级,提高效率 |
通过标准化零件属性管理系统(含可选及标配模块), |
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标准化零件属性管理系统的选配模块可在任何时刻增加。 |
EOS P系统的IPCM配套设备包含自动供粉系统(可选配套,适用于大规模生产); |
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EOS P系统的独特优势是其所制造的部件的高质量、强大的生产能力、高度自动化的外设、专业的材料管理系统。 |
软件:协助客户获得最大的生产能力。 |
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产品型号 |
EOS P 110 |
EOS P 396 |
EOS P 760 |
最大成型尺寸 |
200×250×330mm |
340×340×600mm |
700×380×580mm |
建造速度 |
最高可达20mm/h |
最高可达48mm/h |
最高可达32mm/h |
厚度(与材料有关) |
0.06/0.10/0.12mm |
0.06/0.10/0.12/0.15/0.18mm |
0.06/0.10/0.12/0.15/0.18mm |
激光发射器类型 |
CO₂,30W |
CO₂,70W |
CO₂,2*50W |
光学系统 |
F-theta-lens |
F-theta-lens |
F-theta-lens |
激光扫描速度 |
最高速度为5m/s |
最高速度为6m/s |
最高速度为2*6m/s |
支撑结构 |
不需要 |
不需要 |
不需要 |
电源支持 |
16A |
32A |
32A |
最大功率 |
最大5kW,普遍情况1.4kW |
额定10kW,普遍情况2.4kW |
最大12kW,普遍情况3.1kW |
氮发生装置 |
标准 |
集成 |
集成 |
压缩气体供应 |
7000hPa;20m³/h |
最小. 10 m³/h; 5,000 hPa |
20 m³/h; min. 6,000 hPa |
产品尺寸 |
1320×1067×2204mm |
1840×1175×2100mm |
2250×1550×2100mm |
控制终端 |
/ |
950 mm x 700 mm x 1,550 mm |
1,045 mm x 850 mm x 1,620 mm |
粉末传输系统 |
/ |
1,480 mm x 1,170 mm x 1,470 mm |
1,890 mm x 1,350 mm x 1,550 mm |
推荐安装空间 |
/ |
最小min. 4.3 m x 3.9 m x 3.0 m |
4.8 m x 4.8 m x 3.0 m |
重量 |
600kg |
1060kg |
2300kg |
软件 |
EOS RP Tools(可选), Desktop PSW |
EOS PSW, EOS RP Tools EOSTATE |
EOS RP Tools,EOSTATE; |
CAD数据 |
STL |
STL |
STL |
产品认证 |
CE |
CE, NFPA |
CE, NFPA |
网络 |
Ethernet |
Ethernet |
Ethernet |